硅旋轉靶采用等離子噴涂或者燒結綁定工藝,尺寸根據客戶(hù)要求定制。
硅平面靶采用拉晶生長(cháng)工藝,尺寸可根據客戶(hù)要求加工。
純度:99.9-99.999%應用領(lǐng)域:薄膜太陽(yáng)能工業(yè),低輻射玻璃工業(yè),平板顯示工業(yè),光學(xué)鍍膜工業(yè),半導體工業(yè),工具及裝飾鍍膜工業(yè)。
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